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分類:常見問題
發(fā)布:2017-05-25 10:13:22
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在使用硅磚時就注意以下兩點:
1)硅質(zhì)制品在200~300℃和573℃時,由于晶型轉(zhuǎn)變,體積驟然膨脹,故烘爐時在600℃以下升溫不宜太快,在冷至600℃以下時就避免劇烈的溫度變化。
2)盡可能不與堿性爐渣接觸。
(2)硅磚的技術(shù)指標.我國生產(chǎn)的硅磚按理化指標分為(GZ-96、GZ-95、CZ-94三種牌號,其理化指標和尺寸允許偏差規(guī)定見表3-14和表3-15。
對硅磚的斷面層裂規(guī)定如下:
1)平爐爐頂磚不準有斷面層裂;
2)其他磚層裂寬度不大于0.1mm時,長度不限制;
3)其他磚層裂寬度為0.11~0.25時,長度不大丁50mm;
4)其他磚層裂寬度為0.25?0.50mm時,長度不大于30mm;
5)其他磚層裂寬度大于0.50mm時,不準有;
6)斷面層裂延伸至磚表面時,不準有。
單重大于15kg的磚其技術(shù)條件由供需雙方協(xié)商。
(3)工業(yè)窯爐用硅磚技術(shù)條件:
焦爐用硅磚。焦爐硅磚用于砌筑焦爐的蓄熱室墻、斜道、燃燒室、炭化室。
1)硅質(zhì)制品在200~300℃和573℃時,由于晶型轉(zhuǎn)變,體積驟然膨脹,故烘爐時在600℃以下升溫不宜太快,在冷至600℃以下時就避免劇烈的溫度變化。
2)盡可能不與堿性爐渣接觸。
(2)硅磚的技術(shù)指標.我國生產(chǎn)的硅磚按理化指標分為(GZ-96、GZ-95、CZ-94三種牌號,其理化指標和尺寸允許偏差規(guī)定見表3-14和表3-15。
對硅磚的斷面層裂規(guī)定如下:
1)平爐爐頂磚不準有斷面層裂;
2)其他磚層裂寬度不大于0.1mm時,長度不限制;
3)其他磚層裂寬度為0.11~0.25時,長度不大丁50mm;
4)其他磚層裂寬度為0.25?0.50mm時,長度不大于30mm;
5)其他磚層裂寬度大于0.50mm時,不準有;
6)斷面層裂延伸至磚表面時,不準有。
單重大于15kg的磚其技術(shù)條件由供需雙方協(xié)商。
(3)工業(yè)窯爐用硅磚技術(shù)條件:
焦爐用硅磚。焦爐硅磚用于砌筑焦爐的蓄熱室墻、斜道、燃燒室、炭化室。
項目 | 指標 | |||
GZ-96 | GZ-95 | GZ-94 | ||
ω(SiO2)/% ≥ | 86 | 95 | 94 | |
ω(Fe2O3)/% ≤ | 1.0 | 1.2 | 1.4 | |
顯氣孔率/% ≤ | 22(24) | |||
常溫耐壓強度/MPa ≥ | 單重<20kg | 35(30) | ||
單重≥20kg | 30(25) | |||
0.2MPa荷重軟化開始溫度/℃ ≥ | 1660 | 1650 | 1640(膠結(jié)硅石1620) | |
真密度/(g/cm3) ≤ | 2.34 | 2.35 | ||
注:括號內(nèi)的數(shù)值為手工成型磚的指標。 |
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